جلد 7، شماره 3 - ( 6-1386 )                   جلد 7 شماره 3 صفحات 151-159 | برگشت به فهرست نسخه ها


XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

Gholamreza Nabiyouni. Dependence of resistivity of electrodeposited Ni single layer and Ni/Cu multilayer thin films on the film thickness, and electron mean free path measurements of these films. IJPR. 2007; 7 (3) :151-159
URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-110-fa.html
غلامرضا نبیونی . اندازه‌گیری پویش آزاد میانگین الکترون در لایه‌های نازک Ni و چند لایه‌ایهای نازک Ni/Cu از طریق مطالعه بستگی مقاومت الکتریکی به ضخامت لایه‌ها. مجله پژوهش فيزيك ايران. 1386; 7 (3) :151-159

URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-110-fa.html


، g-nabiyouni@araku.ac.ir
چکیده:   (9118 مشاهده)

در این کار ضمن ارایه یک مدل ریاضی برای محاسبه مقاومت ویژه لایه های نازک, تغییرات مقاومت الکتریکی ویژه بر حسب ضخامت برای تک لایه ایهای نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni/Cu مورد مطالعه قرار گرفت. لایه ها به روش الکتروانباشت از یک محلول الکترولیت شامل یونهای Ni و Cu رشد یافتند. ضخامت لایه ها از 200 تا 2000نانومتر تغییر داده شد. نقش پراش پرتوایکس (XRD) تعدادی از لایه های نازک Ni/Cu بیانگر ساختار چندلایه ای و پیروی آنها از ساختار ترجیحی زیر لایه خود است. از مطالعات اندازه گیری مقاومت الکتریکی ویژه, پویش آزاد میانگین برای لایه های نازک Ni و Ni/Cu محاسبه گردید.

متن کامل [PDF 1415 kb]   (1416 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصي

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
کد امنیتی را در کادر بنویسید

ارسال پیام به نویسنده مسئول


کلیه حقوق این وب سایت متعلق به مجله پژوهش فیزیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2015 All Rights Reserved | Iranian Journal of Physics Research

Designed & Developed by : Yektaweb