جلد 8، شماره 1 - ( 3-1387 )                   جلد 8 شماره 1 صفحات 1-7 | برگشت به فهرست نسخه ها


XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

A. Bahari, K. Hasanzadeh, M. Amir Sadeghi, M. Roodbari. Growth and investigation of TiO2 and AlN nanostructure’s properties. IJPR. 2008; 8 (1) :1-7
URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-141-fa.html
علی بهاری ، کبرا حسن زاده ، مونا امیرصادقی ، ماندانا رودباری . رشد و بررسی خواص نانو ساختاری اکسید تیتانیوم و نیتراید آلومینیوم. مجله پژوهش فيزيك ايران. 1387; 8 (1) :1-7

URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-141-fa.html


چکیده:   (15641 مشاهده)

اکسید تیتانیوم و نیترید آلومینیوم را در شرایط به ترتیب فشار بالا و فشار بسیار پایین بر زیر لایه سیلیکونی رشد داده ایم و با استفاده از تکنیکهایی نظیر تابش سینکروترونی,( AES (Auger Electron Spectroscopy و( SEM (Scanning Electron Microscope به مطالعه ساختار آنها پرداختیم. بررسیهای به عمل آمده نشان می دهند که فیلم آمورف اکسید تیتانیوم و یا نیترید آلومینیوم بر زیر لایه سیلیکون شکل گرفته است که این ویژگی در کنار بالا بودن ثابت دی الکتریک آنها, می تواند از آنها یک گیت دی الکتریک مناسب به جای اکسید فرا نازک سیلیکون بسازد.

متن کامل [PDF 1904 kb]   (2287 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصي

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
کد امنیتی را در کادر بنویسید

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به مجله پژوهش فیزیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2015 All Rights Reserved | Iranian Journal of Physics Research

Designed & Developed by : Yektaweb