جلد 11، شماره 1 - ( مجله پژوهش فيزيك ايران، بهار 1390 )                   جلد 11 شماره 1 صفحات 55-61 | برگشت به فهرست نسخه ها


XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

Naghshara H, Sobhanian S, Sadeghi N. The usage of resonance optical absorption method for measurement of Cu atoms during the plasma sputtering deposition. IJPR. 2011; 11 (1) :55-61
URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-658-fa.html
نقش‌آرا حمید، سبحانیان صمد، صادقی نادر. استفاده از روش جذب تشدیدی برای اندازه‌گیری چگالی اتم‌های مس در لایه نشانی به روش کندوپاش پلاسمایی. مجله پژوهش فيزيك ايران. 1390; 11 (1) :55-61

URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-658-fa.html


دانشگاه تبریز ، naghshara@yahoo.com
چکیده:   (10390 مشاهده)
در این مقاله چگالی اتم‌های مس که به عنوان هدف انتخاب شده است با روش طیف نگاری جذبی تشدیدی برای فشارهای مختلف گاز کاری و توان‌های مختلف منبع تغذیه سیستم پلاسما اندازه‌گیری شده است. به عنوان منبع نور برای طیف نگاری جذبی تشدیدی از یک لامپ کاتد توخالی مس (Cu hollow cathode lamp) استفاده شده است. ضمنا با اضافه کردن درصد مناسبی از نیتروژن به گاز کاری آرگون با استفاده از طیف دورانی مولکول نیتروژن و با بهره‌گیری از یک برنامه کامپیوتری مناسب دمای گاز به دست آمده است.
متن کامل [PDF 697 kb]   (3466 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصي

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
کد امنیتی را در کادر بنویسید

ارسال پیام به نویسنده مسئول


کلیه حقوق این وب سایت متعلق به مجله پژوهش فیزیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2015 All Rights Reserved | Iranian Journal of Physics Research

Designed & Developed by : Yektaweb

تحت نظارت وف بومی آسپا-وف