@article { author = {A. P. ovcharenko, and A. Nahal, and S. U. Mashkina, and E. I. Plauskaya, and E. A. Lupashko,}, title = {Determination of the optical parameters of thin films during the process of coating in vacuum without direct measurement of the coefficients of reflection or transmission}, journal = {Iranian Journal of Physics Research}, volume = {1}, number = {3}, pages = {201-206}, year = {2020}, publisher = {Isfahan University of Technology, The Physics Society of Iran}, issn = {1682-6957}, eissn = {2345-3664}, doi = {}, abstract = {}, keywords = {}, title_fa = {تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه}, abstract_fa = {  در این مقاله مشخصه­های اپتیکی لایه­های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلاء بوسیله یک روش نسبتاً ساده اندازه­گیری می­شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (Ti) به مقدار بیشینه آن (Ta) یعنی Gt=1min/1max=Ti/Ta  از طریق روابط فرنل بدون اندازه­گیری مستقیم ضریب عبور می­توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه ـ زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه­های اپتیکی مواد    As2S3 , Na3AIF6 , PbF2 , MgF2 , ZnS  انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نور سنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لایه­ای حساب به نور ارائه می­شود.}, keywords_fa = {}, url = {https://ijpr.iut.ac.ir/article_1502.html}, eprint = {https://ijpr.iut.ac.ir/article_1502_669ee0a3a2562e1a771921914acac559.pdf} }