انجمن فیزیک ایران مجلۀ پژوهش فیزیک ایران 1682-6957 15 4 2019 11 26 The effect of oxygen flow rate on refractive index of aluminum oxide film deposited by electron beam evaporation technique اثر شار اکسیژن بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم، لایه‌نشانی شده با روش تبخیر باریکه الکترونی 435 440 1167 10.18869/acadpub.ijpr.15.4.435 FA رضا شکوری مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران، تهران حسن حیدری دانشگاه بین المللی امام خمینی(ره)، قزوین Journal Article 2019 11 26 The effects of oxygen flow rate on refractive index of aluminum oxide film have been investigated. The Al2O3 films are deposited by electron beam on glass substrate at different oxygen flow rates. The substrate was heated to reach  and the temperature was constant during the thin film growth. The transmittance spectrum of samples was recorded in the wavelength 400-800 nm.  Then, using the maxima and minima of transmittance the refractive index and the extinction coefficient of samples were determined. It has been found that if we reduce the oxygen flow, while the evaporation rate is kept constant, the refractive index of Al2O3 films increases. On the other hand, reduced oxygen pressure causes the Al2O3 films to have some absorption. در این مقاله اثر میزان شار اکسیژن هنگام لایه‌نشانی بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم بررسی شده است. لایه‌های  توسط تفنگ الکترونی بر روی زیرلایه شیشه‌ای در شارهای متفاوت اکسیژن انباشته شده‌اند. درجه حرارت زیرلایه در زمان لایه‌نشانی 250 درجه سلسیوس ثابت نگه داشته می‌شود. طیف عبوری نمونه‌ها با استفاده از اسپکتروفوتومتر در محدوده طول موجی  اندازه‌گیری شده‌اند. سپس با استفاده از نقاط بهینه (بیشینه یا کمینه) منحنی عبور، ضریب شکست و ضریب خاموشی نمونه‌ها محاسبه می‌شوند. نتایج نشان می‌دهد که با کاهش شار اکسیژن، در حالی که نرخ تبخیر ثابت نگه‌ داشته شده است، ضریب شکست لایه‌های  کاهش می‌یابد. از طرف دیگر، کاهش شار اکسیژن باعث ایجاد مقدار کمی جذب در لایه می‌شود. https://ijpr.iut.ac.ir/article_1167_9da187a7a191431db943a9a5a6fec6f4.pdf