انجمن فیزیک ایران مجلۀ پژوهش فیزیک ایران 1682-6957 25 3 2025 12 22 Utilization of the time-temperature gradient post annealing process for enhancing femtosecond laser induced damage threshold of TiO2 optical films/ verification by XPS study استفاده از فرآیند بازپخت با گرادیان دما-زمان برای بهبود آستانۀ آسیب ناشی از لیزر فمتوثانیه‌ای در لایه‌های نازک نوری 2TiO / راستی‌آزمایی با مطالعۀ XPS 139 142 3676 10.47176/ijpr.25.3.22030 FA علیرضا بنانج پژوهشکده فناوری فوتونیک و کوانتوم، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای 0000-0002-0275-8478 مهدیه خطیری پژوهشکده فناوری فوتونیک و کوانتوم، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای حسین شاهرخ آبادی پژوهشکده فناوری فوتونیک و کوانتوم، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای زهره پارسا دانشگاه خوارزمی، گروه فیزیک، ایران هادی عادل خانی پژوهشکده چرخه سوخت هسته‌ای، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای Journal Article 2024 12 29 In this study we have investigated the effect of controlled post annealing process on the optical properties, chemical composition, and theoretical predictions of femtosecond laser induced damage threshold of TiO₂ thin films. It has been shown, by using time temperature gradient annealing process, optical properties of the deposited films can be tailored, and hence, predicted ultra-fast laser induced damage threshold can be enhanced considerably. Also, the above results were in a good agreement with the XPS results of the deposited samples at two distinct annealing processes. در این پژوهش، اثر فرآیند بازپخت کنترل‌شده پس از لایه‌نشانی بر ویژگی‌های نوری، ترکیب شیمیایی و پیش‌بینی‌های نظری مربوط به آستانۀ آسیب ناشی از لیزر فمتوثانیه‌ای در لایه‌های نازک ₂TiO مورد بررسی قرار گرفته است. نشان داده شد که با به‌کارگیری فرآیند بازپخت دارای گرادیان دما-زمان، می‌توان ویژگی‌های نوری لایه‌های نشاند‌ه‌شده را به‌طور هدفمند تنظیم کرد و در نتیجه، آستانۀ آسیب ناشی از لیزر فوق‌سریع را به‌طور قابل‌توجهی بهبود بخشید. همچنین، نتایج به‌دست‌آمده با یافته‌های حاصل از تحلیل‌گر XPS نمونه‌های لایه‌نشانی‌شده در دو شرایط متفاوت بازپخت، مطابقت خوبی نشان داد. https://ijpr.iut.ac.ir/article_3676_11338326597d14a1f7c745853f4d50a8.pdf