<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE ArticleSet PUBLIC "-//NLM//DTD PubMed 2.7//EN" "https://dtd.nlm.nih.gov/ncbi/pubmed/in/PubMed.dtd">
<ArticleSet>
<Article>
<Journal>
				<PublisherName>انجمن فیزیک ایران</PublisherName>
				<JournalTitle>مجلۀ پژوهش فیزیک ایران</JournalTitle>
				<Issn>1682-6957</Issn>
				<Volume>11</Volume>
				<Issue>1</Issue>
				<PubDate PubStatus="epublish">
					<Year>2019</Year>
					<Month>11</Month>
					<Day>26</Day>
				</PubDate>
			</Journal>
<ArticleTitle>Thickness and roughness measurements of nano thin films by interference</ArticleTitle>
<VernacularTitle>اندازه‌گیری ضخامت و زبری لایه‌های نانومتری با استفاده از نمودار شدت فریزهای تداخلی</VernacularTitle>
			<FirstPage>15</FirstPage>
			<LastPage>25</LastPage>
			<ELocationID EIdType="pii">906</ELocationID>
			
			
			<Language>FA</Language>
<AuthorList>
<Author>
					<FirstName>امیر</FirstName>
					<LastName>سبزعلی‌پور</LastName>
<Affiliation>دانشگاه تهران</Affiliation>

</Author>
<Author>
					<FirstName>محمدرضا</FirstName>
					<LastName>محمدی‌زاده</LastName>
<Affiliation>دانشگاه تهران</Affiliation>

</Author>
</AuthorList>
				<PublicationType>Journal Article</PublicationType>
			<History>
				<PubDate PubStatus="received">
					<Year>2019</Year>
					<Month>11</Month>
					<Day>26</Day>
				</PubDate>
			</History>
		<Abstract>In the standard optical interference fringes approach, by measuring shift of the interference fringes due to step edge of thin film on substrate, thickness of the layer has already been measured. In order to improve the measurement precision of this popular method, the interference fringes intensity curve was extracted and analyzed before and after the step preparation. By this method, one can measure a few nanometers films thickness. In addition, using the interference fringes intensity curve and its fluctuations, the roughness of surface is measured within a few nanometers accuracy. Comparison of our results with some direct methods of thickness and roughness measurements, i.e. using surface profilemeter and atomic force microscopy confirms the accuracy of the suggested improvements.</Abstract>
			<OtherAbstract Language="FA">بر اساس روش متعارف تداخل نوری، با اندازه‌گیری میزان جابه‌جایی فریزهای تداخلی، ضخامت لایه نازک به دست می‌آید. جهت افزایش دقت در سنجش ضخامت‌های کم و کاهش خطاهای اندازه‌گیری، نمودار شدت فریزها قبل و بعد از فرآیند ایجاد پله، رسم می‌شود. با اندازه‌گیری میزان جابه‌جایی فریزهای تداخلی، امکان اندازه‌گیری ضخامت لایه‌های نازک از مرتبه چند نانومتر فراهم می‌شود. همچنین با بهره‌گیری از جابه‌جایی نمودار شدت و استفاده از اعوجاج‌های موجود در نمودار شدت فریزهای تداخلی، زبری سطح نمونه با دقت 2 نانومتر اندازه‌گیری می‌شود. نتایج مقایسه هر دو اندازه‌گیری با روش‌های سنجش مستقیم، حاکی از صحت روش پیشنهاد شده است.</OtherAbstract>
		<ObjectList>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">لایه‌های نانومتری</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">ضخامت لایه‌های نازک</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">زبری سطوح شفاف</Param>
			</Object>
		</ObjectList>
<ArchiveCopySource DocType="pdf">https://ijpr.iut.ac.ir/article_906_c8fbbc86abe8bd6a5eb6a3b4d0411301.pdf</ArchiveCopySource>
</Article>
</ArticleSet>
