جلد 1، شماره 3 - ( -1376 )                   جلد 1 شماره 3 صفحات 201-206 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

A. P. ovcharenko, A. Nahal, S. U. Mashkina, E. I. Plauskaya, E. A. Lupashko. Determination of the optical parameters of thin films during the process of coating in vacuum without direct measurement of the coefficients of reflection or transmission. IJPR. 1998; 1 (3) :201-206
URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-312-fa.html
آ. پ. آوچرنکو ، ارشمید نهال ، اس. و. ماسکینای ، ی. ایی. پلاوسکایا ، ی. آ. لوپاشکو . تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه. مجله پژوهش فيزيك ايران. 1376; 1 (3) :201-206

URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-312-fa.html


چکیده:   (18237 مشاهده)

  در این مقاله مشخصه­های اپتیکی لایه­های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلاء بوسیله یک روش نسبتاً ساده اندازه­گیری می­شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (Ti) به مقدار بیشینه آن (Ta) یعنی Gt=1min/1max=Ti/Ta  از طریق روابط فرنل بدون اندازه­گیری مستقیم ضریب عبور می­توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه ـ زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه­های اپتیکی مواد    As2S3 , Na3AIF6 , PbF2 , MgF2 , ZnS  انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نور سنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لایه­ای حساب به نور ارائه می­شود.

متن کامل [PDF 462 kb]   (3270 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصي

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
CAPTCHA code

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به مجله پژوهش فیزیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2019 All Rights Reserved | Iranian Journal of Physics Research

Designed & Developed by : Yektaweb