نویسندگان

• آ. پ. آوچرنکو
• ارشمید نهال
• اس. و. ماسکینای
• ی. ایی. پلاوسکایا
• ی. آ. لوپاشکو

چکیده

  در این مقاله مشخصه­های اپتیکی لایه­های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلاء بوسیله یک روش نسبتاً ساده اندازه­گیری می­شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (Ti) به مقدار بیشینه آن (Ta) یعنی Gt=1min/1max=Ti/Ta  از طریق روابط فرنل بدون اندازه­گیری مستقیم ضریب عبور می­توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه ـ زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه­های اپتیکی مواد    As2S3 , Na3AIF6 , PbF2 , MgF2 , ZnS  انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نور سنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لایه­ای حساب به نور ارائه می­شود.

عنوان مقاله [English]

Determination of the optical parameters of thin films during the process of coating in vacuum without direct measurement of the coefficients of reflection or transmission

نویسندگان [English]

• A. P. ovcharenko
• A. Nahal
• S. U. Mashkina
• E. I. Plauskaya
• E. A. Lupashko