تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه

نویسندگان

چکیده
  در این مقاله مشخصه­های اپتیکی لایه­های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلاء بوسیله یک روش نسبتاً ساده اندازه­گیری می­شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (Ti) به مقدار بیشینه آن (Ta) یعنی Gt=1min/1max=Ti/Ta  از طریق روابط فرنل بدون اندازه­گیری مستقیم ضریب عبور می­توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه ـ زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه­های اپتیکی مواد    As2S3 , Na3AIF6 , PbF2 , MgF2 , ZnS  انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نور سنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لایه­ای حساب به نور ارائه می­شود.

عنوان مقاله English

Determination of the optical parameters of thin films during the process of coating in vacuum without direct measurement of the coefficients of reflection or transmission

نویسندگان English

A. P. ovcharenko
A. Nahal
S. U. Mashkina
E. I. Plauskaya
E. A. Lupashko

تحت نظارت وف بومی