آ. پ. آوچرنکو، ، ارشمید نهال، ، اس. و. ماسکینای، ، ی. ایی. پلاوسکایا، و ی. آ. لوپاشکو، . (1398). تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه. مجلۀ پژوهش فیزیک ایران، 1(3)، 201-206.

آ. پ. آوچرنکو، , ، ارشمید نهال، , ، اس. و. ماسکینای، , ، ی. ایی. پلاوسکایا، , و ی. آ. لوپاشکو، . "تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه", مجلۀ پژوهش فیزیک ایران, 1, 3, 1398, 201-206.

آ. پ. آوچرنکو , ارشمید نهال , اس. و. ماسکینای , ی. ایی. پلاوسکایا , ی. آ. لوپاشکو . (1398). 'تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه', مجلۀ پژوهش فیزیک ایران, 1(3), pp. 201-206.

آ. پ. آوچرنکو, ارشمید نهال, اس. و. ماسکینای, ی. ایی. پلاوسکایا و ی. آ. لوپاشکو, "تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه," مجلۀ پژوهش فیزیک ایران, 1 3 (1398): 201-206,

آ. پ. آوچرنکو , ارشمید نهال , اس. و. ماسکینای , ی. ایی. پلاوسکایا , ی. آ. لوپاشکو . تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه. مجلۀ پژوهش فیزیک ایران. 1398;1(3):201-206.