نوع مقاله : مقاله پژوهشی

نویسندگان

پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه شهید بهشتی، تهران

چکیده

در این مقاله، لایه‌های نازک کربید زیرکونیوم (ZrC) با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی بر روی زیرلایه‌های آلومینیوم و شیشه تولید شدند. از مطالعۀ نسبت‌های مختلف گاز استیلن (C2H2، گاز واکنشی) در مخلوط گازی استیلن و آرگون (گاز کندوپاشی) مشخص شد این نسبت تأثیر بسزایی در خواص میکروساختاری و رفتار خوردگی لایه‌های نازک کربید زیرکونیوم و در نتیجه بهبود مقاومت به خوردگی آلومینیوم دارد. برای شناسایی خواص میکروساختاری لایه‌های نازک ZrC از پراش پرتو ایکس (XRD)  استفاده شد. به منظور بررسی رفتار خوردگی این پوشش‌ها، از آزمون پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی و آزمون طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی در محلول 5/3 درصد NaCl بهره گرفته شد. همچنین از میکروسکوپ الکترونی روبشی به منظور بررسی ریخت‌شناسی سطح و ضخامت پوشش‌ها استفاده شد‏.

کلیدواژه‌ها

موضوعات

عنوان مقاله [English]

Improving corrosion resistance of aluminum by zirconium carbide thin films

نویسندگان [English]

  • Ali Heidarnia
  • Hamidreza Ghomi

Laser and Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University, Evin 1983963113, Tehran, Iran

چکیده [English]

In this paper, zirconium carbide (ZrC) thin films were deposited on glass and aluminum substrates using DC magnetron sputtering. It was found that different ratios of acetylene gas (C2H2, as a reactive gas) in the gas mixture of acetylene and argon (Ar, as a sputtering gas) affect the microstructural properties, corrosion behavior, and protection efficiency of ZrC thin films. X-ray diffraction (XRD) was used to characterize the microstructural properties of thin films. The corrosion behavior of thin films in a 3.5% NaCl solution was evaluated by potentiodynamic polarization tests and electrochemical impedance spectroscopy (EIS). FESEM was also employed to examine thin films' surface morphology and thickness.

کلیدواژه‌ها [English]

  • corrosion
  • potentiodynamic polarization test
  • zirconium carbide
  • thin film
  • magnetron sputtering
  1. K Xi, et al., Surf. Sci. 585 (2022) 152693.
  2. M Cruz and S E Rodil, Lett. 278 (2020) 128459.
  3. J Liang, et al., Mater. Eng. Perform. 27 (2018) 4462.
  4. L Calabrese, L Bonaccorsi and E Proverbio, Coat. Technol. Res. 9 (2012) 597.
  5. W Zhan, et al., Corros. 71 (2019) 419.
  6. R Rai, T Triloki and B K Singh, Phys. A 122 (2016) 774.
  7. A R Bushroa, et al., Vacuum 86 (2012) 1107.
  8. S Habashyani, et al., Vacuum 157 (2018) 497.
  9. N K Das, et al., Results Phys. 17 (2020) 103132.
  10. T Potlog, et al., Res. Express 6 (2019) 096440.
  11. A Heidarnia and H Ghomi, Theor. Appl. Phys. 16 (2022) 162217.
  12. A Poladi, et al., Int. 45 (2019) 8095.
  13. F E Castillejo, et al., Coat. Technol. 254 (2014) 104.
  14. J Wang, et al., Coat. Technol. 421 (2021) 127468.
  15. H Li, et al., Coat. Technol. 421 (2021) 127413.
  16. Y Zhao, J Xu and S Peng, Int. 47 (2021) 20032.
  17. A Kavitha, K R Gunasekhar, and T Balakrishnan, Iran. Sci. Technol., Trans. A Sci. 43 (2019) 2665.
  18. F B Destro, et al., Met. Phys. Chem. Surf. 52 (2016) 104.

تحت نظارت وف ایرانی