جلد 12، شماره 3 - ( مجله پژوهش فيزيك ايران، پاييز 1391 )                   جلد 12 شماره 3 صفحات 245-251 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

Hosseinpanahi F, Raoufi D. Fractal analysis of the surface of indium–tin-oxide. IJPR. 2012; 12 (3) :245-251
URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-1165-fa.html
حسین‌پناهی فایق، رئوفی داود. تحلیل فرکتالی ویژگی‌های سطح لایه‌های نازک اکسید ایندیوم قلع. مجله پژوهش فيزيك ايران. 1391; 12 (3) :245-251

URL: http://ijpr.iut.ac.ir/article-1-1165-fa.html


دانشگاه بوعلی‌سینا همدان
چکیده:   (10063 مشاهده)

  در این تحقیق، لایه‌های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ( ITO ) در ضخامت‌های مختلف به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه‌ای در دمای اتاق تهیه شده است. ضخامت لایه‌ها 100 ، 150 و 250 نانومتر می‌باشد. با استفاده از تحلیل فرکتالی، فرآیند رشد لایه (افزایش ضخامت) بر خصوصیات مورفولوژیکی سطح در حالت آمورف مورد بررسی قرار گرفت. مشاهده شد که با افزایش ضخامت، ناهمواری سطح ( RMS ) w و طول همبستگی عرضی x کاهش پیدا می‌کند. همچنین، نمای ناهمواری α و نمای رشد β ، به ترتیب برابر α =0.72±0.01 و β=0.11±0.01 ، به دست آمد. بر اساس این نتایج، دریافتیم که فرآیند رشد لایه‌ها را می‏توان به صورت ترکیبی از مدل‌های خطی EW و پخش سطحی مولینز توصیف نمود.

متن کامل [PDF 447 kb]   (3095 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصي

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
CAPTCHA code

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به مجله پژوهش فیزیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2019 All Rights Reserved | Iranian Journal of Physics Research

Designed & Developed by : Yektaweb