نوع مقاله : مقاله پژوهشی
نویسندگان
گروه فیزیک، دانشگاه شهید مدنی آذربایجان، تبریز
چکیده
در این مقاله، تشکیل غلاف و ویژگی‌های آن در یک پلاسمای مغناطیده برخوردی شامل الکترو‌ن‌های نافزونور و یون‌های حرارتی مورد مطالعه قرار میگیرد. با استفاده از مدل سیالی، معیار بوهم به صورت تابعی از پارامترهای پلاسما برای سرعت یون‌ها به دست آمده و نشان داده میشود که برخورد یون-خنثی حد (کران) بالایی برای معیار بوهم تحمیل میکند. همچنین نشان داده میشود که انحراف از توزیع ماکسولی مشخصههای غلاف را تحت تأثیر قرار میدهد. به علاوه، اثرات میدان مغناطیسی، دمای یونی، نافزونوری و بسامد برخورد یون- خنثی بر پتانسیل غلاف و چگالی یون بررسی میشود. نتایج به دست آمده نشان میدهند که با اعمال میدان مغناطیسی میتوان ضخامت غلاف را کنترل کرد
کلیدواژه‌ها
عنوان مقاله [English]
Sheath characteristics in collisional magnetized plasma with nonextensive electrons and thermal ions
نویسندگان [English]
- Mohsen Mohammadnejad
- Afshin Arghand-Hesar
Department of Physics, Faculty of Basic Sciences, Azarbaijan Shahid Madani University, Tabriz, Iran
چکیده [English]
Sheath formation and its characteristics are studied in collisional magnetized plasma consisting of nonextensive electrons and thermal ions. Using two-fluid model, the Bohm criterion for ion velocity is deduced as a function of plasma parameters and shown that ion-neutral collisions impose an upper limit for the Bohm criterion. It is also found that deviation from the standard Maxwellian distribution significantly affects the sheath characteristics. Sheath potential and ion density are considered under the effects of magnetic field, ion temperature, nonextensivity and ion-neutral collision frequency. The results indicate that by applying an external magnetic field, it is possible to control the sheath thickness.
کلیدواژه‌ها [English]
- plasma sheath
- magnetized plasma
- Bohm criterion
- nonextensivity
- thermal ions
- A Renyi, Acta Math. Hung. 6 (1955) 285.
- C Tsallis, Stat. Phys. 52 (1988) 4.
- B M. Boghosian, Rev. E 53 (1996) 4754.
- C Tsallis, et al., Rev. Lett. 75 (1995) 3589.
- I Koponen, Rev. E 55 (1997) 7759.
- P Jund, S G Kim, and C Tsallis, Rev. B 52 (1995) 50.
- J A S Lima, J R Silva, and J Santos, Rev. E 61, 3 (2000) 3260.
- G Kaniadakis, A Lavagno, and P Quariti, Rev. Lett. B 369 (1996) 308.
- J A S Lima, R Silva and J Santos, Astrophys. 396 (2002) 309.
- J R Silva, J S Alcanizc, and J A S Lima, Physica A 356 (2005) 509.
- E M F Curado, J. Phys. 29, 36(1999); S Abe, Physica (Amsterdam) 269A (1999) 403.
- J R Silva, A R Plastino and J A S Lima, Lett. A 249 (1998) 401.
- J A S Lima, R Silva, and A R Plastino, Rev. Lett. 86 (2001) 2938.
- X P Huang and C F Driscoll, Rev. Lett. 72 (1994) 2187.
- J M Liu, et al., Rev. Lett. 72 (1994) 2717.
- M P Leubner, Space Sci. 282 (2002) 573.
- G Livadiotis and D J McComas, Geophys. Res. 114A (2009)11105.
- M A Lieberman and A J Lichtenberg, “Principles of Plasma Discharges and Materials Processing”, New York:Wiley (1994).
- D Boruah, et al., Phys. D: Appl. Phys. 36 (2003) 645.
- S Saloum, M Akel, and B Alkhaled, Phys. D: Appl. Phys. 42 (2009) 175206.
- K-U Riemann, Plasmas 3 (1991) 3331.
- K-U Riemann, Phys. D: Appl. Phys. 24 (1991) 492.
- K-U Riemann, IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 23 (1995) 4.
- K-U Riemann, Phys. Plasmas 36 (1996) 19.
- K-U Riemann, Plasmas 4 (1997) 4158.
- K-U Riemann, Phys. D: Appl. Phys. 36 (2003) 2811.
- R P Brinkmann, Phys. D: Appl. Phys. 44 (2011) 042002.
- H B Valentini, Plasmas 3 (1996) 1459.
- R N Franklin, Phys. D: Appl. Phys. 36 (2003) 2821.
- T E Sheridan and J. Goree, Fluid B 3 (1991) 2796.
- H B Valentini and D. Kaiser, Plasma Source Sci. Technol. 23 (2014) 015004.
- M M Hatamai, Plasmas 22 (2015) 013508.
- N Navabsafa, H Ghomi and A R Niknam, Plasmas 21 (2014) 082111.
- S Robertson, Plasma Phys. Control. Fusion. 55 (2013) 093001.
- D Bohm, “The Characteristics of Electrical Discharges in Magnetic Fields”, ed A Guthrie and R K Wakerling, New York: McGraw-Hill (1949).
- X P Chen, Plasmas 5 (1998) 804.
- V A Godyak, Lett. A. 89 (1982) 80.
- H Ghomi and M Khoramabadi, Fusion Energy 30 (2011) 481.
- M E Kaouini and H Chatei, Fusion Energ. 30 (2011) 199.
- M M Hatami and A R Niknam, Plasma Sci. Technol. 16 (2014) 6.
- W Z Xiong, L J Yuan and Z Xiu, PHYS. LETT. 20 (2003) 9.
- Z Xiu, et al., PHYS. LETT. 28 (2011)12.
- L Huiping, Z Xiu and Q Minghui, Plasma Sci. Technol. 16 (2014) 7.
- H Ghomi, et al., App. Phys. 108 (2010) 063302.
- J Y Liu, Z X Wang and X G Wang, Plasmas 10 (2003) 3032.
- M Sharifiana, et al., Plasma Physics 80 (2014) 607.
- M M Hatami, Plasmas 22 (2015) 023506.
- J R Bezerra, R Silva and J A S Lima, Physica A 322 (2003) 256.
- R Z Sagdeev, in Reviews of Plasma Physics, edited by M. A. Leontovich (1966).
- A A Vedenov, E P Velikhov, and R Z Sagdeev, Fusion 1 (1961) 82 (in Russian).
- M EL Bojaddaini and H. Chatei, Materials Today: Proceedings 24 (2020) 37.
- M EL Bojaddaini and H Chatei, Phys. J. Plus 135 (2020) 680.
)