نویسندگان

گروه پژوهشی فناوری خلأ، سازمان جهاد دانشگاهی صنعتی شریف، تهران

چکیده

در این مقاله، ابتدا لایه نشانی در خلأ با استفاده از منبع تبخیر پرتو الکترونی بررسی و نقش میدان مغناطیسی در عملکرد آن تبیین شده است. پس از آن، توزیع میدان مغناطیسی ‏ناشی از پیکربندی اجزای مغناطیسی یک نمونه منبع تبخیر تجاری با تفنگ پرتو الکترونی با چرخش 270 درجه (ساخت سازمان جهاد دانشگاهی صنعتی شریف)، به وسیله نرم‌افزار المان محدود ANSYS شبیه سازی شده است. صحت نتایج شبیه سازی از طریق مقایسه با نتیجه اندازه گیری میدان مغناطیسی توسط کاوشگر اثر هال ارزیابی گردید. علاوه بر این، با استفاده از قابلیت نرم‌افزار برای ردیابی پرتو، قدرت عدسی مغناطیسی این سامانه برای تمرکز پرتو الکترونی مورد بررسی قرار گرفت. مکان پیش بینی شده برای پرتو در محل هدف، تطابق بسیار خوبی با مشاهدات تجربی دارد.


 

کلیدواژه‌ها

عنوان مقاله [English]

Electron beam focusing in the magnetic field of a bent electron beam evaporator

نویسندگان [English]

  • M Salahshoor
  • A A Zavarian
  • F Hafezi

چکیده [English]

In this paper, the vacuum film deposition through electron beam evaporation has been reviewed and the effect of magnetic field on the operation of this system has been explained. Then, the magnetic field distribution due to magnetic components configuartion of a commercial evaporation source with 270-degree electron beam gun (manufactured by Sharif University Branch of ACECR), has been simulated by means of a finite element software, ANSYS. The simulation result was verified by comparing with the results obtained from measurement by Hall Effect sensor. Furthermore, by using the ray-tracing capability of the software, the capability of the magnetic lens of this device for electron beam focusing has been investigated. The predicted position of the electron beam spot on the target is in good agreement with experimental observations

 

کلیدواژه‌ها [English]

  • electron beam
  • magnetic lens
  • vacuum deposition

1. Z Xiao, and K Kisslinger, J. Vac. Sci. Technol. B 33 (2015) 042001. 2. N P Blanchard, A Niguès, M Choueib, S Perisanu, A Ayari, P Poncharal, S T Purcell, A Siria and P Vincent, Appl. Phys. Lett, 106 (2015) 193102. 3. D M Mattox, “Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing, Noyes Publications”, (1998).

تحت نظارت وف بومی