نویسندگان

1 گروه فیزیک، دانشگاه شهید بهشتی، اوین، تهران

2 گروه فیزیک، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود

چکیده

ایه‌های نازک اکسید تنگستن (WO3) با استفاده از روش الکتروانباشت روی شیشه‌های اکسید قلع فلورین تهیه شدند. سپس لایه‌های WO3‌ بر حسب تابعی از زمان انباشت 
(480s‌، 600s، 660s و 720s) 
مورد بررسی قرار گرفتند. نتایج SEM از نمونه‌ها نشان داد که با افزایش زمان انباشت، کاهش تدریجی در ترک‌های سطح آنها رخ می‌دهد. خواص الکتروکرومیک لایه‌های نازک WO3 در یک الکترولیت 
LiClO4- PC
غیرقابل حل در آب با استفاده ازاندازه‌گیری‌های انتقال نوریو ولتاموگرام چرخه‌ای انتقال نوریو ولتاموگرام چرخه‌ای (CV) بررسی شد نتایج اندازگیری‌های نوری برای لایه‌های نازک WO3 با زمان انباشت
600s
میزان تغییر عبور 26/58% را در طول موج nm 633 نشان داد. همچنین اندازه‌گیری‌های CV نشان داد که لایه نازک WO3 با زمان انباشت 600s به دلیل ساختار بسیار متخلخل آن دارای یک واکنش الکتروشیمیایی و برگشت‌پذیری بالایی است.
 

 

کلیدواژه‌ها

عنوان مقاله [English]

The optical and electrochromic properties of tungsten oxide thin layer: the effect of deposition time

نویسندگان [English]

  • A Abareshi 1
  • M Houshiar 1
  • H Haratizadeh 2

1

2

چکیده [English]

Tungsten oxide (WO3) thin layers were prepared on Fluorine Tin Oxide glass by electrodeposition method. WO3 layers were evaluated as a function of the deposition time (480s, 600s, 660s and 720s).SEM results show that by increasing the deposition time, gradual decrement in cracks on their surface will occur. The electrochromic properties of the WO3 thin layers were investigated in a nonaqueous LiClO4–PC electrolyte by means of optical transmittance, cyclic voltammogram (CV) measurements. The WO3 thin layer with deposition time 600s exhibits a noticeable electrochromic performance with a variation of transmittance up to 58.26% at 633nm. The CV measurements reveal that the WO3 thin layer with deposition time 600s has high electrochemical reaction activity and reversibility due to its highly porous structure.

کلیدواژه‌ها [English]

  • tungsten oxide
  • electrochromic properties
  • electrodeposition
  • cyclic voltammogram
1. P M S Monk, R J Mortimer, and D R Rosseinsky, “Handbook of Electrochromism: Principles and Applications”, Publisher: Wiley-VCH (1995). 2. A Abareshi and H Haratizadeh, Iranian J. Phys. Res. 16, 3 (2016) 47. 3. LYang, D Ge, J Zhao, Y Ding, X Kong, and Y Li, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 100 (2012) 251. 4. C Y Kim; S G Cho, and T Y Lim, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 93 (2009) 2056. 5. S Balaji, Y Djaoued, A Sébastien Albert, Z Richard Ferguson, Ralf Brüning, Bao-Lian Su, J. Mater Sci. 44 (2009) 6608. 6. D S Dalavia, M J Suryavanshia, D S Patila, S S Malia, A V Moholkarb, S S Kalagia,S A Vanalkara, S R Kangb, J H Kimb, and P S Patila, Applied Surface Science 257 (2011) 2647. 7. C G Granqvist, “Handbook of Inorganic Electrochromic Materials”, Amsterdam, New York: Elsevier, (1995). 8. B Yang, P R F Barnes, W Bertram, and V Luca, J. Mater. Chem. 17 (2007) 2722. 9. M Deepa, A K Srivastava, S N Sharma, Govind, and S M Shivaprasad, Appl. Surf. Sci. 254 (2008) 2342. 10. M Giannouli and G Leftheriotis, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 95 (2011) 1932. 11. A H Yan, C S Xie, D W Zeng, S Z Cai, and H Y Li, J. Alloys Compd. 495 (2010) 88. 12. J Zhang, X L Wang, X H Xia, C D Gu, Z J Zhao, and J P Tu, Electrochim. Acta 55 (2010) 6953. 13. R Deshpande, S H Lee, A H Mahan, P A Parilla, K M Jones, A G Norman, B To, J L Blackburn, S Mitra, and A C Dillon, Solid State Ion 178 (2007) 895. 14. H S Shim, J W Kim, Y E Sung, and W B Kim, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 93 (2009) 2062. 15. B B Cao, J J Chen, X J Tang, and W L Zhou, J. Mater. Chem. 19 (2009) 2323. 16. J Zhang, X L Wang, X H Xia, C D Gu, and J P Tu, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 95 (2011) 2107. 17. Y S Lin, S S Wu, and T H Tsai, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 94 (2010) 2283. 18. Chia-Ching Liao, Fu-Rong Chen, Ji-Jung Kai, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 91 (2007) 1282. 19. M Deepa, D P Singh, S M Ssivaprasad, and S A Agnihotry, Current Applied Physics 7 (2007) 220. 20. C Ching Liao, F Chen, and J kai, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 90 (2006) 1147. 21. A J More, R S Patil, D S Dalavi, M P Suryawanshi, V V Burungale, J H Kim, and P S Patil, Journal of Electronic Materials 46 (2016) 974. 22. T Pauporté, J. Electrochem. Soc. 149 (2002) C539. 23. M Deep, A K Srivastava, S N Sharma, Govind, and S M Shivaprasad, Applied Surface Science 254 (2008) 2342.

ارتقاء امنیت وب با وف ایرانی