نوع مقاله : مقاله پژوهشی
نویسندگان
1 پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه شهیدبهشتی، تهران گروه فیزیک، دانشگاه شهیدبهشتی، تهران
2 گروه فیزیک دانشگاه اراک
چکیده
دراین مقاله، تأثیر عملیات حرارتی بر خواص ساختاری واپتیکی پوششهای نابازتابندۀ TiO2 و SiO2 مطالعه و بررسی شد. لایه‌های نازک به روش کندوپاش بر روی زیرلایۀ سیلیکونی لایه نشانی شده و سپس به مدت 1 ساعت در دماهای مختلف، بازپخت صورت گرفت. با بررسی خواص اپتیکی این نمونه‌ها مشاهده شد که بعد از بازپخت، بازتاب از سطح در بازۀ طول موج 750-450 نانومتر از 7/2 به 23/0 درصد کاهش یافت. ضریب شکست نیز بعد از بازپخت نمونه‌ها کاهش پیدا کرد. همچنین با بررسی خواص ساختاری نمونه‌ها، فاز آناتاز برای قبل از انجام عملیات حرارتی و مخلوط آناتاز و روتایل و نیز افزایش شدت قله‌ها بعد از بازپخت نمونه‌ها مشاهده شد.
کلیدواژه‌ها
موضوعات
عنوان مقاله [English]
Investigating the effect of annealing on structural and optical properties of TiO2 and SiO2 broadband reflective layers coated by the plasma sputtering method
نویسندگان [English]
- Hossein Salmaniannezhad 1
- Hassan Salmaniannezhad 1
- Reza Zarei Moghadam 2
- Mohammad Reza Khani 1
- Babak Shokri 1
1 Laser and Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University, Tehran, Iran Faculty of Physics, Shahid Beheshti University
2 Department of Physics, Faculty of Sciences, Arak University, Arak, Iran
چکیده [English]
In this article, the effect of annealing on the structural and optical properties of TiO2 and SiO2 antireflection coatings was investigated. The thin layer was placed on the silicon substrate by sputtering and then annealed for 1 hour at different temperatures. By examining the optical properties of the samples, it was observed that after annealing, the reflection from the surface in the wavelength range of 450-750 nm decreased from 2.7 to 0.23%. The refractive index of the samples also decreased after annealing. Also, by examining the structural properties of the samples, the anatase phase before annealing and the mixture of anatase and rutile and the increase in the intensity of the peaks after annealing were observed.
کلیدواژه‌ها [English]
- anti-reflective coatings
- sputtering
- annealing
- S A M Said, and H M Walwil, Energy 107 (2014) 328.
- H Jiang, L Lu and K Sun, Environ. 45 (2011) 4299.
- J Szczyrbowski, G Br¨auer, and G Teschner, Non- Cryst. Solids 218 (1997) 25.
- F Wiesinger, et al., Energy Mater. Sol. Cells, 179 (2018) 10.
- H A Macleod, “Antireflection coatings, in: Thin-film Optical Filters”, CRC press, Taylor & Francis, Bristol, UK (2018).
- W J Ho, et al., Materials 10 (2017) 700.
- D Huh, et al., Energy Mater. Sol. Cells 170 (2017) 33.
- M Moayedfar and M Khalaji Assadi, Adv. Mater. Sci. 23, 2 (2018) 187.
- H A Macleod, “Thin-Film Optical Flters”, CRC Press (2001).
- S W Glunz, R Preu, and D Biro, “Crystalline Silicon Solar Cells: State- Of-The-Art and Future Developments”, Elsevier (2012).
- M Mazur, et al, Surf. Sci. 380 (2016) 165.
- X Chen and A Selloni, Chemical reviews, 11) 2014 (
- J Viˇsniakov, et al., Thin Solid Films 628 (2017) 190.
- J Musil, V Satava, and P Baroch, Thin Solid Films 519 (2010) 775.
- U Grüning, et al., Phys. Lett. 68 (1996) 747.
- Lin, et al., Nature 394 (1998) 251.
- B S Richards, Energy Mater. Sol. Cells. 79 (2003) 369.
- N Fathy, R Kobayashi, and M Ichimura, Sci. Eng. B 107 (2004) 271.
- Y Y Liu, et al., Alloys Compd. 479 (2009) 532.
- S H Jeong, et al., Vacuum 76 (2004) 507.
- M A Green, Photovoltaics Res. Appl. 17 (2009) 183.
- L Yao, and J He, Mater. Sci. 61 (2014) 94.
- C Battaglin, et al., Thin Solid Films 351 (1999) 176.
- H K Park, et al., Mater. Chem. A 1 (2013) 5860.
- P Pansila, N Witit-Anun, and S Chaiyakun, Procedia Eng 32 (2012) 862.
- U Helmersson, et al., Thin Solid Films 513 (2006) 1.
- Du et al., Micropor. Mesopor. Mat. 15 (2017) 1.
- T Sertel, et al., Int. 45 (2019) 11.
- S B Khan, H Wu, and Z Zhang, Coatings 8 (2018) 210.
)