نویسندگان

1 دانشگاه تبریز

2 دانشگاه گرونوبل فرانسه

چکیده

در این مقاله چگالی اتم‌های مس که به عنوان هدف انتخاب شده است با روش طیف نگاری جذبی تشدیدی برای فشارهای مختلف گاز کاری و توان‌های مختلف منبع تغذیه سیستم پلاسما اندازه‌گیری شده است. به عنوان منبع نور برای طیف نگاری جذبی تشدیدی از یک لامپ کاتد توخالی مس (Cu hollow cathode lamp) استفاده شده است. ضمنا با اضافه کردن درصد مناسبی از نیتروژن به گاز کاری آرگون با استفاده از طیف دورانی مولکول نیتروژن و با بهره‌گیری از یک برنامه کامپیوتری مناسب دمای گاز به دست آمده است.

کلیدواژه‌ها

عنوان مقاله [English]

The usage of resonance optical absorption method for measurement of Cu atoms during the plasma sputtering deposition

نویسندگان [English]

  • H Naghshara 1
  • S Sobhanian 1
  • N Sadeghi 2

چکیده [English]

In this paper, the resonance optical absorption method, is used to measure the Cu atoms number density in different power levels of power supply. Atoms are sputtered from a Cu target during plasma magnetron sputtering deposition. For the light source, a commercial Cu hollow cathode lamp is used. For measurement of gas temperature, a small percentage of N2 is added to the gas mixture and the gas temperature is found by optical emission technique.

کلیدواژه‌ها [English]

  • resonance optical absorption
  • plasma sputtering

تحت نظارت وف بومی